PP滤芯微滤膜核径迹蚀刻法
PP滤芯微滤膜核径迹蚀刻法是采用物理和化学双重作用制备微滤膜的一种新方法。通过用高能荷电粒子(强度一般为1MeV左右)辐照聚合物材料(一般为聚酯、聚碳酸酯薄膜材料)，使粒子穿过之处聚合物链节断裂，形成残缺径迹，此时再用刻蚀试剂与敏感的残缺端基反应，使径迹继续扩大，最终形成孔径大小均匀的柱状孔，既而形成直通孔微滤膜。核径迹蚀刻法制备微滤膜的过程。
影响微滤膜孔结构的主要因素有:薄膜的厚度、高能荷电粒子的照射时间、刻蚀液的浓度、刻蚀的时间、温度等。薄膜的厚度一般为5-15um,所制得的微滤膜孔径一般在0.02-10um之间，孔隙率一般为10%左右，由于膜较薄，因此流体透过速度与相转化法相当。这种膜一般具有亲水、耐热、耐酸、透光性好等特点。
示例 聚碳酸酯微孔滤膜
膜材料 酸碳酸脂(PC)薄膜。
腐蚀剂 氢氧化纳。
制膜工艺 重离子轰击PC薄膜，聚合物薄膜分子键断裂，形成小分子和自由原子团，这些受激产物在紫外线/过氧化剂的作用下，继续损伤并形成酸性化合物;
酸性化合物在碱溶液作用下，生成可溶性盐，经冲洗形成微孔。
